四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]的合成方法
作者:zhn
發(fā)布時間:2022-08-04
10:17:45
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產品名稱:四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]的合成方法
產品描述:
四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]的合成方法合成了系列四(3-異戊氧基)金屬酞菁MPc(3-iso-PeO)4 (M=Cu, Pb, Ni)和四(4-異戊氧基)金屬酞菁MPc(4-iso-PeO)4 M= =Cu, Ni, Pb, Zn)配合物,通過元素分析、核磁共振、FTIR光譜和質譜等對合成產物進行了表征。利用旋涂制備了系列四(3-異戊氧基)金屬酞菁MPc(3-iso-PeO)4(M=Cu, Pb,Ni)、四(4-異戊氧基)金屬酞菁MPc(4-iso-PeO)4 (M=Cu, Ni, Pb, Zn)、系列四叔J基四氮雜卟啉配合物MTAP(t_Bu)4 [M=Pd、Co、Ni]和四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t_Bu)4]薄膜,采用Uv-Vis、FTIR和AFM對配合物在薄膜中的存在狀態(tài)和薄膜結構進行了分析。四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]利用旋涂制備了系列四叔J基四氮雜卟啉類酞菁配合物[Pd、Co、Ni、CuTAP(t-Bu)4]和四叔J基酞菁配合物[CuPCc(t-Bu)4]旋涂膜。研究了中心金屬、共軛環(huán)大小、薄膜形貌對NHg和NO2的氣敏性影響。研究發(fā)現配合物氣敏性與中心金屬離子半徑、d-電子數和共軛能力有關。中心金屬離子半徑越大、d-電子數越多,中心金屬d-電子對酞菁共軛環(huán)的π -電子貢獻越大,對卟啉環(huán)的給電子能力增加大,越有利于卟啉環(huán)向NH3轉移電子,利于產生空穴載流子,卟啉配合物的響應越大。增加配合物共軛環(huán)共軛能力,了配合物對氣體的響應,但降低了響應恢復能力;多孔微型薄膜結構有利于薄膜對氣體分子的吸附與脫附,大大了配,合物的響應恢復能力。產地:西安純度:99%用途:用于科研供應商:西安齊岳生物科技有限公司西安齊岳生物供應多種酞菁定制材料:四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]苯硫基鋁鈦菁(C56H32AlClN8S4)烷氧基鋁鈦菁(C56H32AlClN8O4)疏水性四苯氧基酞菁鋅(ZnT PPc)聚氨基酞菁鈷(CoTAPc)亞酞菁(三硝基溴硼亞酞菁)薄膜酞菁銅(CuPcTs)四(2-氯丙酰胺基)氯代銦酞菁[InClPc(NHCOCHClCH3)4]四磺酸酞菁鈷配合物陰離子(CoPcTS4-)酞菁氧鈦(TiOPc)薄膜紅區(qū)熒光探針四磺基鋁酞菁(AlS4Pc)顏料酞菁藍(CuPc)八羧酸酞菁鋁配合物(AlPc(COOH)8)四叔丁基萘酞菁氧釩((t-Bu)_4 NcVO)化合物四取代4-異丙苯基苯氧基酞菁鉛PbPc(CP)4四氨基鎂酞菁(MgPc)2,3-二辛基酞菁氧釩(2,3-C8OVPc)2,16(17)-二辛基酞菁氧釩(dp-C8OVPc)1,15-二辛基酞菁氧釩(1,15-C8OVPc)1,18-二辛基酞菁氧釩(1,18-C8OVPc)四磺基鋁酞菁(AlS4Pc)Y晶型酞菁氧鈦(TiOPc)溫馨提示:以上產品只可提供做科研實驗不能用于人體齊岳生物小編ssl2022.2.21 相關目錄: cas1082287-99-7花菁染料結構圖及合成 磺酸鐵酞菁(FePeS)酞菁科研試劑材料聯系我們:
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